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紫外光刻机的重要技术主要体现在这两个方面

发布时间:2022-01-10      点击次数:353
  紫外光刻机广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米技术。并且,该系列光刻机已被多家企业、研发中心、科研院所、大专院校采用作为其光刻系统的基础;其过硬的技术、良好的服务赢得了广大用户的青睐。作为光刻系统,其重要技术在于以下两个方面:掩模晶圆对准和将掩模上的图案复制到晶圆上,为下一步或离子注入工艺做准备。
  紫外光刻机的曝光方式采用压力可调的接触曝光,有效减少光刻胶对掩模版的污染和掩模版的磨损,从而提高掩模版的使用寿命。该机采用i-line紫外曝光光源,光学系统采用特殊的抗衍射和线陡增强技术,采用积木错位绳眼透镜实现高光均匀照明,配备双目双目显微镜和CCD图像对准系统(可以同时使用)。具有高曝光能量、小聚焦角、厚胶曝光功能。曝光设置微电脑控制,菜单界面友好,操作简单。

 

紫外光刻机
 

 

  该设备采用CCD图像底部对准技术和单曝光头正面曝光的整体设计技术,实现双面对准。采用新颖的高精度、多自由度掩模样品精密对准工作台结构设计,掩模样品对准过程直观,雕刻对准速度快,精度高。掩模板和样品的放置采用推拉式参考板和真空吸附,操作方便。该装置可用于用紫外光照射正胶或负胶,通过显影可对样品进行精细图案化。
  紫外光刻机适用于所有标准化光刻应用,带有顶部和底部对齐系统。底部对位系统允许对基板的上下表面进行图形加工,适用于三五组易碎化合物、不规则基板、透明基板和碎片的微加工。具有键合对准升级功能和衍射减少光学系统。曝光方式可以是近距离接触、软接触、硬接触和真空接触。
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