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紫外光刻机的性能指标主要集中在这几个方面

发布时间:2022-07-05      点击次数:383
  紫外光刻机的主要性能指标包括:支撑基板的尺寸范围、分辨率、对位精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
  

紫外光刻机

 

  1、分辨率是描述光刻可以达到的最细线精度的一种方式。光刻机的分辨率受到光源衍射的限制,因此受到光源、光刻系统、光刻胶和工艺的限制。
  
  2、对准精度是多层曝光时层间图案的定位精度。
  
  3、曝光方式分为接触接近、投影和直写。
  
  4、曝光光源的波长分为紫外区、深紫外区和极紫外区。光源包括汞灯、准分子激光器等。
  
  紫外光刻机广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米技术。重要的技术在于以下两个方面:掩模晶圆对准,以及将掩模上的图案复制到晶圆上,为下一步或离子注入工艺做准备。曝光方式采用压力可调的接触曝光,有效降低了光刻胶对掩模版的污染和掩模版的磨损,提高了掩模版的使用寿命。因此,曝光机/光刻系统以其高性价比令人印象深刻。
  
  紫外光刻机高分辨率光刻,光烧蚀/光解/光催化工艺,表面能改性,臭氧产生,低损伤原子表面清洁,增强薄膜附着力,高功率平面真空紫外光为光处理提供了新的可能性。大功率弧光灯的革命性使用具有出色的均匀性和通用性,高效紧凑的模块化设计,这些都是在172nm光源上实现的。此外,还创造性地推出了真空紫外线处理系统。
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