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Harrick等离子清洗机都有哪几种清洗方式?

发布时间:2022-12-21      点击次数:69
  等离子体是指弱电解质蒸气,是电子器件、正离子、分子、分子结构或氧自由基的结合体。清洗时,高能电子器件的冲击反映蒸汽的分子结构,使其离解或削弱电解质,应用引起的各种粒子负电子在表面被清洗或与被清洗表面发生化学反应,从而在商业上消除各种空气污染物。还可以改善材料本身的表面功能,那么Harrick等离子清洗机都有哪几种清洗方式?
 
  

Harrick等离子清洗机
 

 

  1、化学反应
  
  血浆中碱性酶的氧自由基与材料表面的有机化合物反应,也叫PE。用co2清洗,使非挥发性有机化合物变得挥发性,产生二氧化碳、一氧化碳和水。有机清洗的好处是清洗率高,选择性好,能有效清洗有机化学空气污染物。主要缺点是转化的金属氧化物可能会在材料表面再次产生。在引线键合工艺中,金属氧化物是最不期望出现的,通过适当选择工艺的主要参数可以避免这种缺陷。
  
  2、Harrick等离子清洗机物理反应
  
  也叫磁控溅射刻蚀(SPE)是利用等离子体中的正离子进行纯物理撞击,去除附着在材料表面的分子。氩气用于清洗,正氩离子以足够的动能对电子器件表面进行负冲击,冲击力足以去除所有灰尘。聚合物中的生物大分子被离子键分离成小分子水,由机械泵气化排出。根据氩等离子体清洗,可以改变材料表面的外部经济外观,使材料在分子结构水平上越来越“粗糙”,这可以大大提高表面特异性并推进表面的粘附。氩气低温等离子体的好处是不容易将所有金属氧化物留在饰面材料表面。缺陷很可能导致过度侵蚀或空气污染物颗粒积聚在其他不可预料的区域,但是这种缺陷可以通过微调主要工艺参数来控制。
  
  3、Harrick等离子清洗机物理和化学反应同时存在
  
  物理反应与化学反应均起关键功效的清洗。例如,当使用Ar和O2的混合物进行在线等离子体清洗的整个过程时,化学反应速率必须比单独使用Ar或O2更快。正离子加速后,氩气产生的机械能可以反映氧离子。因此,环境污染不太乐观的材料表面可以用物理方法消除。
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