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看看URE-2000/35型紫外光刻机都有哪些突破传统的优势?

发布时间:2021-06-17      点击次数:34
  随着电子工业的快速发展,对作为电子元器件基础的印制板的需求和对加工精度的要求越来越高。URE-2000/35型紫外光刻机是印制板制造过程中的重要设备。传统的光刻机在生产过程中需要人工吹膜,需要经常更换薄膜。由于散热系统过于臃肿,其生产成本高、效率低,已不能满足PCB生产的需要。在实验的基础上,设计了一种双层玻璃干燥架光刻机,对其主要部件进行了改进,包括干燥架系统、光路系统、冷却系统、电气和控制系统的整体设计。
  在计算机的控制下,URE-2000/35型紫外光刻机利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光。光刻胶改变其物理和化学性质,在一定的溶剂中形成良好或不良的溶解区域,从而在抗蚀剂上形成精细的图案。
 

URE-2000/35型紫外光刻机

 

  紫外投影光刻是将特定形状的光斑投射到器件表面涂覆的光刻胶上,使光刻胶在照射区域发生化学变化,曝光显影后可形成微米级精密图案;进一步的蚀刻或蒸发可以在样品表面形成所需的结构。UV投影光刻作为材料、器件、微结构和微器件的常用制备技术,广泛应用于维纳结构制备、半导体器件电极制备、太赫兹/毫米波器件制备、光掩模制备、PCB制造等应用领域。常规UV投影光刻机需要先制作掩膜版。耗材成本高、生产周期长,难以满足材料器件实验室对灵活性和实验进度的要求。近年来发展起来的无掩模光刻技术突破了这一技术局限,实现了任意形状编程、自动高精度大规模拼接无掩模光刻,随时将您的设计转化为实际成品,大大缩短了开发测试周期,强力辅助维纳微纳器件的制备。
  URE-2000/35型紫外光刻机基于多年微纳结构制备经验,自主研发高均匀度UV光源、高保真导光路、高精度、大行程、大承重纳米平台等核心技术,结合高度稳定的机械结构、自动化和软件设计,推出全自动高精度无掩模光刻机。
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