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DS-2000/14G型光刻机

简要描述:DS-2000/14G型光刻机该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源,用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板,采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2021-03-15
  • 访  问  量:154

详细介绍

品牌其他品牌价格区间面议
仪器种类微流控芯片系统应用领域医疗卫生,环保,电子
产品名称:DS-2000/14G型光刻机
主要技术指标:
单次曝光面积:1.4mm×1mm
大曝光基片:100mm ×100mm
对准精度:±0.8μm(半自动对准)
大胶厚:300μm(SU8胶)
自动逐场对焦;
分辨力:1μm;
X、Y、Z、θ四自由度电动位移台
X、Y平移重复定位精度:0.65μm(3σ)
Z向运动精度:1μm
DS-2000/14G型光刻机技术特点:
该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源,用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板,采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明,并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统(可同时使用),拼接获得大面积图形,曝光设定采用微机控制,菜单界面友好,操作简便。

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